花折断層（京都市左京区北白川）において、活断層をまたぐ2測線において電気探査（比抵抗トモグラフィ）を実施したところ、断層トレースと思われる部分が、周辺部よりも"高比抵抗"を示す傾向が見られた。
本発表では、花折断層の浅部比抵抗構造とその解釈について報告する。